超聲掃描顯微鏡:半導(dǎo)體芯片封裝的 “微觀質(zhì)檢員”
在半導(dǎo)體芯片封裝密度持續(xù)提升、異質(zhì)集成技術(shù)廣泛應(yīng)用的趨勢(shì)下,超聲掃描顯微鏡技術(shù)正成為保障芯片封裝質(zhì)量的核心檢測(cè)工具。該技術(shù)通過向芯片內(nèi)部發(fā)射高頻超聲波,利用不同介質(zhì)界面的聲阻抗差異反射信號(hào),構(gòu)建芯片內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)的高分辨率圖像,為芯片封裝中的隱藏缺陷檢測(cè)提供了可靠解決方案。
技術(shù)原理
超聲掃描顯微鏡以高頻超聲波(頻率通常為 10MHz-1GHz)為探測(cè)載體,當(dāng)超聲波穿透芯片封裝結(jié)構(gòu)時(shí),遇到芯片與基板、鍵合線與焊盤、填充膠與芯片等不同界面時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同強(qiáng)度的反射波。通過接收并分析這些反射信號(hào)的時(shí)間、幅度等參數(shù),經(jīng)計(jì)算機(jī)處理重建出芯片內(nèi)部的二維或三維圖像,可清晰呈現(xiàn)分層、空洞、裂紋、虛焊等微觀缺陷,檢測(cè)精度可達(dá)微米級(jí),甚至能識(shí)別直徑小于 5μm 的微小空洞。
質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)
應(yīng)用領(lǐng)域
該技術(shù)已成為半導(dǎo)體芯片高可靠性封裝領(lǐng)域的關(guān)鍵檢測(cè)手段:
隨著半導(dǎo)體芯片向 “More thanMoore”(超越摩爾定律)方向發(fā)展,封裝結(jié)構(gòu)愈發(fā)復(fù)雜,傳統(tǒng)光學(xué)檢測(cè)已無法滿足微觀缺陷檢測(cè)需求。超聲掃描顯微鏡不僅解決了芯片封裝隱藏缺陷難檢測(cè)的問題,更通過微觀數(shù)據(jù)賦能芯片封裝工藝優(yōu)化,推動(dòng)半導(dǎo)體制造從“粗放生產(chǎn)”向“精密管控”轉(zhuǎn)型,為高端芯片的穩(wěn)定運(yùn)行提供堅(jiān)實(shí)保障。